標籤: 極紫外輻射EUV
申請專利：中國7納米晶片光刻技術取得突破
中國在先進晶片製造領域正逐漸縮小與西方的差距。位於上海的微電子裝備（集團）股份有限公司公佈了一系列製造7納米及以下晶片關鍵能力的專利。這一消息也得到了德國專業媒體的注意。 包括「芯 ...
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